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plasma cleaner等离子清洗机

简要描述:plasma cleaner已应用于各种电子元件的制造,可以确信,没有等离子清洗机及其清洗技术,就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外,等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上,而且是产品提升的关键技术,比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层,复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造,超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗摩耗层等皆需等离子技术的进步,才能开发完成。

  • 产品型号:CPC-A
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-07-14
  • 访  问  量:1505

详细介绍

品牌其他品牌仪器种类专用型
价格区间10万-30万产地类别国产
应用领域医疗卫生,化工,地矿,能源

plasma cleaner应用领域

  等离子清洗机在材料学,光学,电子学,医药学,环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用,主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等。

  plasma cleaner采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。

  对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的应用,起源于20世纪初,随着高科技产业的快速发展,其应用越来越广,目前已在众多高科技领域中,居于关键技术的地位,等离子清洗技术对产业经济和人类文明影响大,首推电子资讯工业,尤其是半导体业与光电工业。

  plasma cleaner已应用于各种电子元件的制造,可以确信,没有等离子清洗机及其清洗技术,就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外,等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上,而且是产品提升的关键技术,比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层,复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造,超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗摩耗层等皆需等离子技术的进步,才能开发完成。

plasma cleaner产品特点

智能化程序化控制,触摸按键 +4.3 寸液晶显示屏 + 双浮子流量计组合系统控制;

手动、自动两种工作模式。

自动匹配器。

美国Honeywell真空压力传感器。

美国德威尔(Dwyer)气体浮子流量计。

双路气体控制。

内置式弧形等离子激发板

全系统不锈钢材质。

数字和浮子流量计可选。

可选样品台升降装置

安全保护,仓门打开,自动关闭电源。

免维护,无需任何耗材。

整机保修一年。

 

技术参数

型号

CPC-A

CPC-B

CPC-A-13.56

CPC-B-13.56

舱体尺寸

300xΦ100mm

300xΦ150mm

300xΦ100mm

300xΦ150mm

舱体容积

2.6L

5.2L

2.6L

5.2L

射频电源

40KHz

13.56MHz

匹配器

自动匹配

自动匹配

射频功率

10-200W无j可调

10-150W无j可调

电 源

220V 50/60HZ

电 流

1.2A

时间设定

1-99分59秒

气体稳定时间

1分钟

真空度

100pa以内

激发方式

电容式

产品尺寸 LxWxH

550x520x285mm

包装尺寸 LxWxH

690x630x450mm

整机重量

15Kg

20Kg

18Kg

25Kg

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