固话:86-010-63752026 手机:400-650-5735 返回首页 | 联系我们
技术文章 / Technical article 您的位置:网站首页 > 技术文章 > 为大家分析说明Plasma等离子清洗机原理

为大家分析说明Plasma等离子清洗机原理

点击次数:539 发布时间:2016-12-24

  Plasma等离子清洗机一般是利用激光、微波、电晕放电、热电离、弧光放电等多种方式将气体激发成等离子状态。
  在Plasma等离子清洗机应用中,主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发,产生含有离子、激发态分子,自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类,一类为惰性气体的等离子体(如Ar2、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。等离子产生的原理如下:给一组电极施以射频电压(频率约为几十兆赫兹),电极之间形成高频交变电场,区域内气体在交变电场的激荡下,产生等离子体。活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,而达到清洗目的。
  Plasma等离子清洗机的清洗过程从原理上分为两个过程过程1为:有机物的去除首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3与有机物进行反应,达到将有机物排除的目的;
  过程2为:表面的活化首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3含氧官能团的表面活化作用,来改善材料的粘着性和湿润性能。
  等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面zui终被真空泵吸走;化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。
  以物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点在于本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性,腐蚀作用各向异性;缺点就是对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。
  以化学反应为主的Plasma等离子清洗机的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较,化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显着不同,物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”,从而改变表面的粘接特性。还有一种Plasma等离子清洗机是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用,即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀,两种清洗可以互相促进,离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态,容易吸收反应剂,离子碰撞使被清洗物加热,使之更容易产生反应;其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性,又有较好的方向性。
  典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体,Plasma等离子清洗机的等离子体的氩气不和表面发生反应,而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,从而去除表面的污染物。

在线客服 二维码

扫一扫,关注我们