文章导读国际ZM学术期刊《NanoLetters》（ACS旗下纳米科技期刊《纳米快报》）在线发表了关于COT（晶体轴对齐氧插值晶体管）的突破性研究成果。该研究创新性地在单一器件中集成偏振传感、光电流存储与光电逻辑功能，为下一代高速低功耗传感-存储-计算一体化系统提供了全新技术路径...

“新材料王”的诞生，离不开更好的“表面功夫”。2026年4月7日至10日，第十三届深圳国际石墨烯论坛暨第二届二维材料国际研讨会在清华大学深圳国际研究生院盛大启幕。大会名誉主席由中国科学院成会明院士与康飞宇教授担任，大会主席由任文才研究员和刘碧录教授担任。现场还汇聚了包括诺贝尔奖得...

CIF合作客户团队在高效晶硅太阳能电池与钙钛矿/硅叠层光伏领域的突破性研究成果荣登能源领域QW期刊《NatureEnergy》，影响因子：60.1！这项工作围绕隧道氧化层钝化接触（TOPCon）电池结构展开深度优化，不仅突破了传统TOPCon电池的效率瓶颈，更为下一代高稳定、可工...

在现代高精度制造领域，产品表面的洁净程度往往直接影响性能。氧等离子清洗机作为一种先进的干法清洗设备，正以其清洁能力和无损特性，在半导体、医疗、光学等产业中扮演着日益关键的角色。氧等离子清洗机是一种采用氧气等离子体技术的高效清洗设备，能够快速清除各种材料表面的污染物，如污渍、油脂、...

在微纳米尺度的加工与材料分析中，如何精准去除一层薄薄的有机物而不伤及基底，是一项非常有挑战性的任务。等离子灰化仪，正是为应对这一挑战而生的精密设备。它利用高能等离子体，在低温环境下实现有机物的“干法”去除，被誉为微观世界的“干式清洁工”。等离子灰化仪，又称等离子清洗机或等离子去胶...

RIE反应离子刻蚀机(ReactiveIonEtcher)作为一款融合等离子体物理与化学刻蚀的精密设备，能实现对材料的高选择性、高anisotropy(各向异性)刻蚀，凭借刻蚀精度高、工艺可控性强的优势，成为微纳加工领域不可少的核心装备。RIE反应离子刻蚀机的核心优势源于“物理轰...

紫外臭氧清洗机的核心功能，是利用紫外线照射产生臭氧，通过臭氧的强氧化性和紫外线的光解作用，分解去除物体表面的有机污染物，同时实现一定的杀菌消毒效果。其核心作用围绕“无残留清洗、精密防护、洁净保障”展开，具体可分为三类：有机污染物精准去除。这是最核心的功能。无论是半导体晶圆表面的有...

国际zm学术期刊《NanoLetters》（ACS旗下dj纳米科技期刊《纳米快报》）在线发表了关于二维（2D）磁性半导体CrSBr力学性能的系统性研究成果。该研究深入探索了CrSBr的弹性各向异性、层间耦合及疲劳抗性等核心特性，为下一代应变可调自旋电子器件的研发奠定了重要基础。使...