RIE反应离子刻蚀机(ReactiveIonEtcher)作为一款融合等离子体物理与化学刻蚀的精密设备，能实现对材料的高选择性、高anisotropy(各向异性)刻蚀，凭借刻蚀精度高、工艺可控性强的优势，成为微纳加工领域不可少的核心装备。RIE反应离子刻蚀机的核心优势源于“物理轰...

紫外臭氧清洗机的核心功能，是利用紫外线照射产生臭氧，通过臭氧的强氧化性和紫外线的光解作用，分解去除物体表面的有机污染物，同时实现一定的杀菌消毒效果。其核心作用围绕“无残留清洗、精密防护、洁净保障”展开，具体可分为三类：有机污染物精准去除。这是最核心的功能。无论是半导体晶圆表面的有...

氧等离子清洗机的核心功能是去除材料表面有机污染物、氧化物及颗粒，同时改善表面亲水性、粘接性能或引入功能性官能团。选购前需明确以下需求：材料类型：不同材料(如金属、塑料、玻璃、陶瓷)对等离子体的响应存在差异。例如，塑料表面可能需通过氧等离子处理增强粘接性，而金属表面则需去除氧化物层...

邀请您为推动科学事业的发展，感谢各位科研工作者对CIF工作的支持。CIF将在2025年大力推进论文奖励计划，奖励总金额为十万元整。希望各位科研工作者使用我司产品发出更多、更优秀的文章，现公布论文奖励政策如下：奖励规则：✅文章(正文或SI)中必须写清产品名称及型号，并包含公司名称“...

等离子清洗机中等离子体的产生是在密闭的反应腔体(真空室)内，通过真空泵将腔体内的气体抽至设定的真空度。然后通入氩、氢、氮气等工艺气体，启动等离子发生器，使反应腔体内电极之间产生高压交变电场。这个高压交变电场会加速自由电子的能量，去激发工艺气体分子形成等离子体。等离子体是物质的一种...

2025年9月26日至30日，为期五天的2025年全国电子显微学学术年会在武汉国际会议中心（武汉洲际酒店）圆满落幕。年会学术交流内容精彩纷呈，涵盖了球差校正透射电镜、原位显微学、高分辨扫描电镜、低温电镜、扫描探针显微镜等几乎所有前沿技术领域，并深入探讨了这些技术在物理、化学、生命...

等离子表面处理仪的核心结构围绕等离子体生成与样品处理设计，主要包括以下模块：等离子体发生器可通过射频电源、微波电源或直流电源将气体(如氩气、氢气、氮气)离化为等离子态，产生包含离子、电子、活性基团等的高活性物质。真空系统由真空腔体(不锈钢或石英材质)和真空泵(干泵或油泵)组成，用...

粉末等离子清洗机(或广义的等离子清洗设备)通过高能等离子体对材料表面进行物理轰击和化学改性，实现清洁、活化、刻蚀等功能，在多个行业中展现出不可替代的价值。一、电子行业：提升元器件性能与可靠性半导体制造晶圆清洗：去除光刻胶残留、金属氧化物等污染物，提高引线键合强度。例如，5G芯片封...