全国服务咨询热线:
18511111800
网站首页
关于我们
产品中心
新闻中心
技术文章
荣誉资质
在线留言
联系我们
热门关键词:
半导体领域仪器设备:等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机等。 理化实验室仪器设备:酸蒸逆流清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板等
article
技术文章
首页
>
技术文章
> 简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策?
简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策?
发布时间:2020-01-05 点击次数:912
简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策?
原因对策:
1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件
2坩锅没有清冼干净坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净
3镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏
4预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻
5预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢,不要加的太快
6.电子枪档板不干净每罩要更换电
子枪档板,以及电子枪档板要清冼干净
7.膜料污染避免膜料相互污染,以及保存方法
8.膜料本身不纯更换其它品种膜料
上一篇:
粉末等离子清洗机有着哪些优势?
下一篇:
为什么要在高真空下镀膜?
华仪行(北京)科技有限公司
地址:北京市丰台区科兴路7号国际企业孵化中心301室
邮箱:cif_lab@163.com
传真:86-010-63752028
快速链接
首页
关于我们
产品展示
新闻资讯
技术文章
荣誉资质
在线留言
联系我们
关注我们
欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息:
欢迎您关注我们的微信公众号
了解更多信息
版权所有 © 2023 华仪行(北京)科技有限公司(www.plasmacleaning.cn) All Rights Reserved
备案号:京ICP备14024388号-3
管理登陆
技术支持:
化工仪器网
sitemap.xml
电话
010-63752026
在线交流
微信扫一扫
返回顶部