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匀胶旋涂仪的工作原理您了解吗?

发布时间:2021-03-27      点击次数:61
  匀胶旋涂仪主要用于液体,胶体在材料表面薄膜的形成,适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研,教育,生产中应用。匀胶旋涂仪主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。

  匀胶旋涂仪的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,匀胶机常用于各种溶胶凝胶实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。一般来说,匀胶转速快,时间长,膜厚就薄。影响匀胶过程的可变因素很多,这些因素在匀胶时往往相互抵销并趋于平衡。所以*好给予匀胶过程以足够的时间,让诸多影响因素达到平衡。

华仪行提供的Ossila匀胶旋涂仪,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。

华仪行(北京)科技有限公司
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