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匀胶旋涂仪的操作步骤

更新时间:2024-06-24       点击次数:804
匀胶旋涂仪是在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。该设备主要用于晶片涂光刻胶。

匀胶旋涂仪的使用步骤:

1、开机前准备:清理残余物,选择合适的吸盘,并将样品放在吸盘正中央。

2、开机与设定:打开电源,设定涂布的时间和转速,并启动真空吸附。

3、涂布:滴加光阻剂,并启动涂布过程。

4、完成涂布后,关闭真空和电源,取下样品。

本公司提供的L2001匀胶旋涂仪操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,占地面积小,节省超净间的使用面积,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。匀胶旋涂仪可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象,影响涂层的均匀性。

华仪行(北京)科技有限公司
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