匀胶旋涂仪通过高速旋转基片，利用离心力将滴加在基片表面的胶液均匀铺展，形成纳米至微米级厚度的薄膜。
匀胶旋涂仪的构成：
1、旋转平台：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或机械夹持固定基底，材质多为耐腐蚀金属或陶瓷。
2、驱动系统：由高精度电机驱动，可准确控制旋转速度和加速度，确保转速稳定。
3、控制系统：通过微处理器或 PLC 实现自动化控制，可预设旋转程序，部分机型支持触摸屏操作和数据存储。
4、防护装置：包括透明防护罩、废液收集槽，部分机型配备通风系统。
5、滴胶辅助装置：部分设备集成自动滴胶系统，可精准控制滴胶量和滴胶位置，减少人为操作误差。
关键参数：
1、转速范围：通常为 100-10000 rpm，部分设备可达 20000 rpm 以上，转速精度直接影响薄膜均匀性。
2、旋转时间：可设置 0.1 秒至数分钟，多段时间 - 转速组合满足复杂涂覆需求。
3、加速度/减速度：控制转速变化的快慢，避免液体因剧烈加速而飞溅或分布不均。
4、基底尺寸：支持圆形或方形，不同机型适配范围不同。
5、真空吸附力：确保基底在高速旋转时不位移，吸附力需根据基底材质和厚度调整。
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