离子溅射仪的操作流程

离子溅射仪的技术特点：

纳米级精准控制：通过准确调节溅射电流、电压、时间及真空度，可实现纳米级的薄膜厚度控制，且膜层均匀性高。

冷态无损镀膜：采用磁控二极管放电型设计及低压平面磁场，有效减轻了高能电子对样品的轰击损伤，对温度敏感样品非常友好。

高度自动化：现代设备多配备LCD触摸屏或微处理器，支持程序化数字控制、自动抽气/放气、一键启动及常用加工条件记忆功能。

绿色环保：整个镀膜过程在密闭真空环境中进行，无废水、废气排放，且靶材利用率较高。

操作流程：

1.样品粘贴在导电胶上，放置样品台；

2.盖上真空罩，启动机械泵抽真空；

3.通入氩气，调节工作气压；

4.设置溅射电流、溅射时间（控制膜厚）；

5.开启高压，开始溅射镀膜；

6.溅射完成，腔体放气，取出样品即可上扫描电镜观察。