随着光电子信息产业的发展，紫外线表面清洁技术在上被提出。1970年代中期，美国军事电子技术和设备实验室使用紫外线清洁石英晶片，并取得了令人满意的结果。但是，在美国，紫外线表面清洁技术长期以来一直主要用于领域的研究中。
直到1990年代初，日本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电产品的工业生产过程中，并在需要技术保密的情况下，开始向中国的外资LCD公司提供UV光清洗机。。随后，在日本开发紫外线表面清洁技术的同时，还开发了紫外线表面改性技术。二十世纪末，日本的先进工业国家如紫外线表面清洁和升级技术逐渐从信息产业扩展到金属，塑料，橡胶等工业生产过程。在1990年代后期，中国的信息技术和产业以惊人的速度迅速发展，特别是平板显示技术的迅速发展。LCD屏幕从TN级别持续提高到STN和TFT。新型OLED显示产品也开始进入市场。结果，制备过程的表面质量要求变得越来越严格，紫外线表面清洁技术的优越性已得到广泛认可，并且对紫外臭氧清洗机的需求也在不断增加。
1.在LCD和OLED的生产中，在施加光致抗蚀剂，PI胶，取向膜，铬膜和彩色膜之前先用紫外臭氧清洗机进行光清洁，可以大大提高基板表面的润湿性并增强基板表面的附着力；
2.大型集成电路的密度越来越高，晶格越来越密，并且要求表面的清洁度越来越高。轻度清洁可以有效地实现表面原子清洁度，并且不影响芯片表面。会造成损坏。
3.在印刷电路板的生产中，紫外臭氧清洗机对铜基板和印刷基板进行光学清洗和改性，并在焊丝焊接之前进行光学清洗，这样可以增加熔焊的接触面积并大大提高增加连接强度。特别是对于高精度印刷电路板，当线间距达到亚微米水平时，光清洗可以轻松地去除线间距之间的非常小的颗粒，这可以大大提高印刷电路板的质量。
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