Spin Coater的优点和缺点有哪些？

　　局限和缺点：在非旋转对称基板的情况下，由于强烈的空气湍流，抗蚀剂在基板边缘附近形成了明显的边缘珠。

　　Spin Coater对抗蚀剂膜厚度的影响当抗蚀剂剥离完成时，以一定旋转速度给出的抗蚀剂膜厚度保持足够长的旋转时间。达到膜厚所需的旋转时间随抗蚀剂粘度的增加而增加。低旋转速度也会导致增加时间，以获得恒定的抗蚀剂膜厚度。抗蚀剂膜中剩余的溶剂浓度也影响其厚度。在涂布过程中，溶剂浓度下降并达到约15-25％的饱和度，这取决于膜厚，对于较厚的膜则更高。

　　在有纹理的基材上，所获得的纹理边缘覆盖范围很小，并且拓扑结构的某些部分可能根本不会被覆盖。仅有百分之几的抗蚀剂产率相当低。

　　Spin Coater中的高环境溶剂饱和度会降低所获得的抗蚀剂膜的厚度，由于抑制了溶剂从抗蚀剂中的蒸发，导致膜的平整度降低。因此，与随后在旋涂机中涂覆有一定数量的新鲜抗蚀剂的晶片相比，一系列涂覆的前几个晶片可能会显示出稍高的膜厚。在这种情况下，需要借助于恒定的抗蚀剂膜厚度，在涂层系列开始时对一些虚拟晶片进行蚀刻将是有益的。该设备还会影响所获得的抗蚀剂膜厚度：与标准系统相比，旋转陀螺仪可将膜厚度减小两倍。