等离子表面处理仪的核心结构围绕等离子体生成与样品处理设计，主要包括以下模块：
等离子体发生器可通过射频电源、微波电源或直流电源将气体(如氩气、氢气、氮气)离化为等离子态，产生包含离子、电子、活性基团等的高活性物质。
真空系统由真空腔体(不锈钢或石英材质)和真空泵(干泵或油泵)组成，用于维持处理所需的真空环境，确保等离子体稳定生成。
反应室(真空腔体)是样品放置区域，配备电极组件(如平板式、圆筒式或箱式结构)，通过电场作用激发气体产生等离子体。
控制系统采用PLC、单片机或触摸屏控制，实现参数调节(如真空度、处理时间、气体流量)、设备监控及故障诊断。
气体输送系统通过流量控制器准确导入工艺气体，确保处理效果稳定。
等离子表面处理仪通过以下步骤实现样品表面处理：
·真空泵将反应腔体内气体抽至设定真空度，为等离子体生成提供条件。
·通入工艺气体后，等离子体发生器在电极间产生高压交变电场，加速自由电子能量，激发气体分子形成等离子体。
·高活性等离子体与样品表面污染物(如有机物、微颗粒)发生物理或化学反应：
·物理碰撞：离子风冲击材料表面，断裂化学键，增加粗糙度。
·化学反应：活性基团与污染物反应生成挥发性物质，被真空泵抽离。
·表面改性：放电产生的臭氧等强氧化剂使材料表面氧化，引入极性基团(如羰基、过氧化物)，提升表面能。
·通过清洁、活化、刻蚀等作用，改善样品表面粘附力、印刷性、涂布性等性能。
地址：北京市丰台区科兴路7号国际企业孵化中心301室
邮箱：cif_lab@163.com
传真：86-010-63752028