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  • 等离子去胶机主要用于半导体、MEMS、光电器件、PCB/IC封装等工艺中,通过等离子体把光刻胶、有机残留、脱模剂、油污等“灰化”掉。它和等离子清洗机功能有重叠,但去胶机更强调光刻胶剥离、刻蚀后残胶清除、灰化速率、选择比和低损伤控制。工作流程...
  • 在精密制造与前沿科研领域,材料表面的洁净度与活性往往直接决定最终产品的性能与良率。从半导体晶圆到医疗器械,从汽车零部件到新能源电池,等离子清洗技术正以其高效、环保、无损的特性,成为表面处理环节不可少的关键工艺。作为国内真空等离子清洗领域的重...
  • 大气等离子清洗机是工业表面处理领域的关键设备,无需真空环境即可在常压下利用低温等离子体对材料表面进行清洁、活化、刻蚀和改性,能有效提升材料表面能、亲水性及后续粘接、涂覆、印刷的附着力。大气等离子清洗机的本质是在大气压环境下,通过高频高压电场...
  • 离子溅射仪是一种利用高能离子轰击靶材,使靶材原子溅射并沉积在基底表面,从而制备高纯度、高结合力薄膜的核心设备。该设备在扫描电镜样品前处理、半导体芯片、光学器件及新能源电池等领域发挥着重要的作用。离子溅射仪的技术特点:纳米级精准控制:通过准确...
  • 在材料科学、地质勘探以及半导体制造等诸多前沿领域,对样品进行前处理是获取精准分析数据的关键环节。传统的样品灰化方法往往伴随着高温灼烧或化学试剂腐蚀,这不仅容易导致易挥发元素的流失,还可能破坏样品原本的晶格结构与矿物成分。等离子灰化仪的出现,...
  • 在半导体、新能源、太阳能电池、光电材料、生物传感等前沿科研与精密制造领域,薄膜沉积工艺是决定产品性能、精度与稳定性的核心环节。旋涂、狭缝挤出涂布作为两大主流薄膜成型技术,凭借工艺成熟、可控性强、适配性广的优势,成为实验室研发与中小批量生产的...
  • 一、等离子清洗机市场潜力不断释放随着半导体、新能源、精密电子、光电器件、生物医疗以及先进制造等产业快速发展,材料表面处理技术的重要性日益凸显。等离子清洗机凭借无损、高效、环保、精度高等特点,能够有效去除材料表面的有机污染物,提高材料表面活性...
  • 低温等离子灰化仪是一种利用高频电激发氧等离子体,在低温条件下选择性去除有机成分而不破坏无机结构的精密仪器,相较于传统高温灰化技术,它有效避免了热敏感成分挥发和矿物结构破坏的问题,是科研检测与工业生产中样品前处理的核心设备。CIF低温等离子灰...
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