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关于匀胶旋涂仪你了解这些么?

发布时间:2021-03-12      点击次数:25
   匀胶旋涂仪在匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的阶段,光刻胶就开始干燥(溶剂挥发)了,所以控制加速度很重要。在一些匀胶过程中,光刻胶中50%的溶剂就在匀胶过程开始的几秒钟内挥发掉了。在已经光刻有图形的基片上匀胶,加速度对胶膜质量同样起重要作用。
  在许多情况下,匀胶旋涂仪基片上已经由前面工序留下来的精细图形。因此,在这样的基片上穿越这些图形均匀涂胶是重要的。匀胶过程总是对光刻胶产生离心力,而恰恰是加速度对光刻胶产生扭力(twisting force),这个扭力使光刻胶在已有图形的周围散开,这样就可能以另一种方式用光刻胶覆盖基片上有图形的部分。
  匀胶旋涂仪的控制和显示:
  1.非常方便设定处理速度和加速度程序段;可设置顺序循环控制;
  2.显示精度控制在设定值的0.006%以内;
  3.操作者可随时随地自由实现人机交互;
  设备运转进程中,可随意向前,向后或者往返跳跃操作步骤;循环指令,并可以重复操作;在运转模式下也可以实时改变速度和加速度;包含PC程序端接口;可视化操作模型(化学试剂,传感器所见即所得的操作界面);故障报警装置(可形象显明故障发生位置);加速度的小分辨率为1RPM/S;宽广的速度设定范围(1~12000RPM)。
  匀胶旋涂仪设备,包括弧形板,储胶区,导流板,支撑柱和固定板,弧形板的弧度与使用的上胶辊外壁相同,弧形板的一侧设置有储胶区,与其对应的另一侧设置有导流区,弧形板顶部中心设置有两个相同的支撑柱,任意支撑柱顶部设置有螺母,任意支撑柱和螺母之间设置有固定板。任意支撑柱外壁有螺旋纹路,任意支撑柱和螺母螺旋连接。匀胶旋涂仪设备有益之处在于:能够将胶液部匀,防止多余的胶液溢出,方便清洁,延长使用寿命,提高涂胶机工作效率。
华仪行(北京)科技有限公司
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