关于匀胶旋涂仪你了解这些么？

　　在许多情况下，匀胶旋涂仪基片上已经由前面工序留下来的精细图形。因此，在这样的基片上穿越这些图形均匀涂胶是重要的。匀胶过程总是对光刻胶产生离心力，而恰恰是加速度对光刻胶产生扭力（twisting force），这个扭力使光刻胶在已有图形的周围散开，这样就可能以另一种方式用光刻胶覆盖基片上有图形的部分。

　　匀胶旋涂仪的控制和显示：

　　1.非常方便设定处理速度和加速度程序段；可设置顺序循环控制；

　　2.显示精度控制在设定值的0.006%以内；

　　3.操作者可随时随地自由实现人机交互；

　　设备运转进程中，可随意向前，向后或者往返跳跃操作步骤；循环指令，并可以重复操作；在运转模式下也可以实时改变速度和加速度；包含PC程序端接口；可视化操作模型（化学试剂，传感器所见即所得的操作界面）；故障报警装置（可形象显明故障发生位置）；加速度的小分辨率为1RPM/S；宽广的速度设定范围（1~12000RPM）。

　　匀胶旋涂仪设备，包括弧形板，储胶区，导流板，支撑柱和固定板，弧形板的弧度与使用的上胶辊外壁相同，弧形板的一侧设置有储胶区，与其对应的另一侧设置有导流区，弧形板顶部中心设置有两个相同的支撑柱，任意支撑柱顶部设置有螺母，任意支撑柱和螺母之间设置有固定板。任意支撑柱外壁有螺旋纹路，任意支撑柱和螺母螺旋连接。匀胶旋涂仪设备有益之处在于：能够将胶液部匀，防止多余的胶液溢出，方便清洁，延长使用寿命，提高涂胶机工作效率。