随着社会的发展及技术的需要，工业生产对生产材料的要求也不断增强，如在微电子封装工艺中，电子设备的小型化、高精度，对封装工艺的可靠性提出了相应的要求，高质量的封装技术可以提高电子产品的使用寿命。等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法...

等离子体是由被剥夺部分电子后的原子及原子团电离产生的离子化气体状物质，具有比气态、液态、固态物质都高的能量范围，被称为物质的第四态。等离子体是由离子、电子和中性粒子组成的中性集合体，在与材料表面撞击时会将自己的能量传递给材料表面的分子和原子...

石墨消解仪具有消解快速、方便等优点，适用于农业、林业、环保、化工、食品、医药、生化等行业以及高等院校、科研部门对土壤、食品饲料、植株、种子、矿石等化学分析之前的样品消解处理。石墨消解仪的核心部件是一块预先制作了若干孔位的石墨块，石墨块上预制...

高压消解罐又叫水热合成反应釜，是化学实验室常用的小型高压消解反应器。主要用于快速消解难溶样品，也可用于少量的合成反应。在密闭环境中，样品在强酸强碱和高温高压同时作用下达到快速消解之目的。高压消解罐是利用罐体内高温高压密封体系(强酸或强碱)的...

匀胶旋涂仪一般包括托盘安装于腔室内部，用于吸附基片；喷嘴，延伸入腔室内部，用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上；微波发生装置，安装于腔室侧壁，用于产生微波对基片提供热量；温控系统，安装于腔室上壁，用于控制微波发生装置以设定微波加热的...

匀胶旋涂仪操作简单，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案。可用于实验室项目建设.作为用于除半导体外,还有硅片、芯片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺，科研、教学之用。匀胶旋涂仪的使用注意事项：1.使用前主要检查设备与真空...

紫外臭氧清洗机提供一种简单，经济,快速获得超洁净的表面，去除大多数无机基材(比如石英,硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等)上的有机污染物。作用是通过紫外光和臭氧将衬底表面的油脂和有机物氧化祛除，以达到清洁的效果。同时改变了衬底表面的亲疏水性...

匀胶旋涂仪的运行可以按基片旋转速度及胶质的变化，分为4个阶段：滴胶，加速旋转，匀速旋转以及去边，其中第3阶段匀速旋转阶段是胶质涂层厚度和均匀性控制的重要阶段。在滴胶前，胶质需经过亚微米级别的过滤处理，否则薄膜有可能形成彗星图，星状图，或产生...