RIE反应离子刻蚀机是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀，即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应，同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗机的工作原理基于紫外线(UV)与臭氧(O2)的协同作用。紫外线照射能够激发空气中的氧气分子(O2)，使其分解为氧原子(O)，随后这些氧原子与周围的氧气分子结合，生成臭氧。臭氧作为一种强氧化剂，能够迅速与材料表面的有机污染物发生化...

紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备，能够简单，经济，快速获得超洁净表面。紫外臭氧清洗机的选购注意要点：1.清洗面积：根据实际需要清洗的基片或物品的大小，选择具有合适有效清洗面积的清洗机。2.清洗效果：关注清洗机...

低温等离子有机质去除仪被广泛应用于多个领域中，如化工业、造纸业、制药业等，用于去除异味、恶臭及有机质，其使用流程包括开机前的准备、开机与预热、运行与监控、停机与清理以及注意事项等多个环节，只有严格按照流程操作，才能确保设备的正常运行。低温等...

粉体在生产和加工过程中，往往会附着一些难以清洗的污垢和氧化物，这些污垢和氧化物会影响粉体的质量和使用效果。粉体等离子清洗机能够通过等离子体的化学反应原理，将这些污垢和氧化物分解并清洗掉，从而提高粉体的质量和使用效果。粉体等离子清洗机就是在常...

RIE反应离子刻蚀机的工作原理基于化学反应和物理离子轰击的双重作用。在一个真空环境中，通过高频电场的作用，激发腐蚀气体分子，使之形成等离子体。这些高能等离子体与样品表面发生剧烈的物理轰击和化学反应，从而实现对材料表面的高精度刻蚀。具体来说，...

低温等离子有机质去除仪的原理主要基于低温等离子技术，这是一种通过导电介质在电极周围形成一个高度聚集的等离子体区的技术。当外加电压达到气体的放电电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体，这种混合体即为低温等离子体。...

扫描电镜等离子清洗机是一款专为扫描电子显微镜（SEM）样品准备而设计的高效清洗设备。该机利用等离子体技术，通过活性气体的激发，去除样品表面的有机污染物和微尘，确保样品在显微观察中的清洁和高质量成像。扫描电镜等离子清洗机的工作原理主要基于等离...