匀胶旋涂仪有一个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了滴胶或胶口移动式滴胶。胶膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片与片间的误差小于±5nm。滴胶泵有波纹管式和...

随着社会的发展及技术的需要，工业生产对生产材料的要求也不断增强，如在微电子封装工艺中，电子设备的小型化、高精度，对封装工艺的可靠性提出了相应的要求，高质量的封装技术可以提高电子产品的使用寿命。等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法...

真空赶酸仪适用于食品、医药、农业、林业、环保、化工、生化行业以及高等院校、科研部门。对土壤、饲料、植株、种子、矿石等化学分析之前的样品、消解、赶酸处理，更适合CEM微波消解仪的赶酸处理。真空赶酸仪的使用注意事项：·安全1、该仪器用于实验中的...

等离子体是由被剥夺部分电子后的原子及原子团电离产生的离子化气体状物质，具有比气态、液态、固态物质都高的能量范围，被称为物质的第四态。等离子体是由离子、电子和中性粒子组成的中性集合体，在与材料表面撞击时会将自己的能量传递给材料表面的分子和原子...

石墨消解仪具有消解快速、方便等优点，适用于农业、林业、环保、化工、食品、医药、生化等行业以及高等院校、科研部门对土壤、食品饲料、植株、种子、矿石等化学分析之前的样品消解处理。石墨消解仪的核心部件是一块预先制作了若干孔位的石墨块，石墨块上预制...

高压消解罐又叫水热合成反应釜，是化学实验室常用的小型高压消解反应器。主要用于快速消解难溶样品，也可用于少量的合成反应。在密闭环境中，样品在强酸强碱和高温高压同时作用下达到快速消解之目的。高压消解罐是利用罐体内高温高压密封体系(强酸或强碱)的...

匀胶旋涂仪一般包括托盘安装于腔室内部，用于吸附基片；喷嘴，延伸入腔室内部，用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上；微波发生装置，安装于腔室侧壁，用于产生微波对基片提供热量；温控系统，安装于腔室上壁，用于控制微波发生装置以设定微波加热的...

匀胶旋涂仪操作简单，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案。可用于实验室项目建设.作为用于除半导体外,还有硅片、芯片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺，科研、教学之用。匀胶旋涂仪的使用注意事项：1.使用前主要检查设备与真空...