匀胶旋涂仪是一种常见用于材料薄膜制备工艺的实验室设备，它的原理相对比较简单，利用电机高速旋转时所产生的离心力使得试液或者胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。匀胶机有很多称谓，匀胶台，旋转涂膜机，旋转涂...

plasmacleaner中的等离子体与自然界产生的等离子体本质上是一样的，是区别于固体、液体和气体的另一种物质聚集态，人们称之为物质存在的第四种状态。它由电离的导电气体组成，其中包括六种典型的粒子，即电子、正离子、负离子、激发态的原子或分...

随着ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量检测技术的广泛应用，人们发现试剂不纯带来空白值高的问题已经制约了这些痕量检测技术的实际应用。同时，一些高纯的金属、半导体和其他材料领域，也对试剂的纯度提出了更高的要求。为此，人们开始寻求各种试剂纯化...

随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品中是不会缺少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。如何保证产品的高可靠性和高成品率，且同时保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么，对使用者来说选择高洁净度，且又具有...

匀胶旋涂仪快速启动和稳定的转速，能够保证胶厚度的一致性和均匀性。主要用于微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，可在科研、教育等单位作科研...

紫外臭氧清洗机在工作时是给臭氧发生器供电，臭氧发生器产生臭氧，由臭氧泵通过臭氧管输送到洗菜机的洗涤桶中，在洗涤桶中与水机接触，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很强的杀菌、消毒，降解农药作用。使用过后可将产品表面清洗处理的均匀度一致，可*清除...

在面对微波消解完赶酸过程中经常遇到的赶酸时间长、酸腐蚀严重存在的问题，使用真空赶酸系统可以把原来的赶酸时间从原来的3-4个小时缩短到30-40分钟之间，大大提高赶酸效率，并且通过碱液吸收，可避免酸气的腐蚀，杜绝污染。真空赶酸系统采用集成式优...

洁净的样品前处理容器是获得可靠分析结果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常压消解罐、玻璃器皿（试管、烧杯、容量瓶等）等的痕量清洗，对于实验室人员来说，始终是一个非常繁琐而又非常重要的挑战。使用酸蒸逆流清洗器可以解决这些问题。酸蒸逆流清洗器...