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匀胶旋涂仪学会2个参数,轻松掌握!

点击次数:132 发布时间:2020-05-13

  匀胶旋涂仪对于从事微流控领域的研究者来说并不陌生,它可以用来制备膜厚度<10nm薄膜,在1-100um厚度的光刻胶沉积光刻工艺中也常常用到。在微流控领域,载玻片、硅片、ITO导电玻璃等都可作为薄膜涂覆基底材料。匀胶旋涂仪原理简单来讲,通过片托产生负压,将需旋涂基底材料吸附在片托上,然后将涂覆材料胶液滴注在基底材料表面,通过调节电机转速,来改变离心力大小,同时控制胶液流量,从而获得想要的膜厚度,当然,膜厚度还跟旋涂时间、胶液粘度、温度以及湿度等因素有关。 
  匀胶旋涂仪性能相关的几个参数:
 
  1.片托材质:目前大部分匀胶机片托材质采用的一般是铝合金或者是普通塑料,原因是成本低,对于一般要求是能够满足需求的,但是对于要求比较严苛行业来说,比如半导体以及化工行业,由于铝合金抗腐蚀性不是很好,高温和高压会导致塑料你变形等原因,对于片托的要求就比较高,目前一般采用天然聚丙烯以及聚四氟乙烯材料,原因是这两种具有材质绿色环保、重量轻、强度大,坚固耐用以及抗冲击性能好等优点。
 
  2.真空吸附以及清洗系统:真空泵系统压力标定需准确,若实际压力降低,可能会存在飞片现象,容易产生实验事故。使用完旋涂仪后,需在泵开启状态,用有机溶剂进行气孔清洗,确保下次正常使用。

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