匀胶旋涂仪学会2个参数,轻松掌握！
更新时间：2020-05-13 点击次数：1305
匀胶旋涂仪对于从事微流控领域的研究者来说并不陌生，它可以用来制备膜厚度<10nm薄膜，在1-100um厚度的光刻胶沉积光刻工艺中也常常用到。在微流控领域，载玻片、硅片、ITO导电玻璃等都可作为薄膜涂覆基底材料。匀胶旋涂仪原理简单来讲，通过片托产生负压，将需旋涂基底材料吸附在片托上，然后将涂覆材料胶液滴注在基底材料表面，通过调节电机转速，来改变离心力大小，同时控制胶液流量，从而获得想要的膜厚度，当然，膜厚度还跟旋涂时间、胶液粘度、温度以及湿度等因素有关。
匀胶旋涂仪性能相关的几个参数：
1.片托材质：目前大部分匀胶机片托材质采用的一般是铝合金或者是普通塑料，原因是成本低，对于一般要求是能够满足需求的，但是对于要求比较严苛行业来说，比如半导体以及化工行业，由于铝合金抗腐蚀性不是很好，高温和高压会导致塑料你变形等原因，对于片托的要求就比较高，目前一般采用天然聚丙烯以及聚四氟乙烯材料，原因是这两种具有材质绿色环保、重量轻、强度大，坚固耐用以及抗冲击性能好等优点。
2.真空吸附以及清洗系统：真空泵系统压力标定需准确，若实际压力降低，可能会存在飞片现象，容易产生实验事故。使用完旋涂仪后，需在泵开启状态，用有机溶剂进行气孔清洗，确保下次正常使用。
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