紫外臭氧清洗机

紫外臭氧清洗机原理：

通过紫外灯发出适当强度的185nm和254nm波长高能紫外线破坏有物分子(污染物)。185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3)，而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和原子氧(O)，  254 nm紫外线同时激发表面的有机物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性原子氧(O)与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应，生成挥发性气体(如CO2，CO, H2O,NO等)逸出材料表面，从而清除粘附在材料表面上的碳和有机污染物，达到清洗的目的。
应用领域：
   u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。

u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。

u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。

u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射针接合部分的表面性,介入导管的表面改型等。

u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。

产品特点

智能化操作与控制

u 多样控制：提供基础型（四键可编程控制器）和高级型（5寸彩色触摸屏）两种操作界面，满足不同需求。

u 参数管理：可设置并自动记录清洗参数，数字正计时显示（1-999分钟），支持过程中断。

u 智能补偿：具备自动光强补偿功能，确保灯管老化后清洗效果依然稳定。

精确与灵活的样品处理

u 温控可选：样品台可选配加热功能，控温范围室温至200℃，精度达0.1℃。

u 灵活放置：上置式样品台可360度自由旋转且高度可调，便于定位和放置各类样品。

核心光源与反应系统

u 高性能光源：采用高强度UV石英低压汞灯，主波长185nm和254nm，灯管寿命约8000小时。

u 高效反射：UV反射罩尺寸经过优化，比灯管大25mm，以提高光能利用率。

u 反应腔定制：可根据客户需求，提供铝或石英材质的真空反应腔定制。

安全与环保设计

u 双重安全保护：配备安全锁与灯光状态提示，开盖即自动关闭UV灯，保障使用者安全。

u 气路与臭氧管理：标配进/出气口，可接入氧气以增强臭氧产量；部分型号可内置或外置臭氧中和器，用于清除残余臭氧。

注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。可选臭氧中和装置。