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  • CPC-Aplasma cleaner等离子清洗机
    CPC-Aplasma cleaner等离子清洗机

    plasma cleaner已应用于各种电子元件的制造,可以确信,没有等离子清洗机及其清洗技术,就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外,等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上,而且是产品提升的关键技术,比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层,复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造,超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗摩耗层等皆需等离子技术的进步,才能开发完成。

    时间:2022-07-19型号:CPC-A访问量:4043
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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-Spin Processor转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    时间:2021-11-03型号:SC1访问量:1218
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  • CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机
    CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机

    CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

    时间:2021-11-03型号:CIF-SEM访问量:1500
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  • CPC-CCIF转瓶等离子清洗机
    CPC-CCIF转瓶等离子清洗机

    CIF转瓶等离子清洗机,专为处理颗粒、粉末样品而设计!在等离于体作用下,一些材料很容易发生断键和聚合,应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

    时间:2021-11-03型号:CPC-C访问量:6128
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  • CPC-GCIF等离子清洗机G系列
    CPC-GCIF等离子清洗机G系列

    等离子清洗机也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。

    时间:2022-08-30型号:CPC-G访问量:2463
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  • CPC-C-13.56粉末等离子清洗机
    CPC-C-13.56粉末等离子清洗机

    粉体等离子清洗机可以不分处理对象,它可以处理各种各样的材质,无论是金属、半导体、氧化物,还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。

    时间:2022-11-17型号:CPC-C-13.56访问量:1793
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  • PH18CIF烤胶机
    PH18CIF烤胶机

    CIF烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀性要求高的实验室。

    时间:2022-03-29型号:PH18访问量:1010
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  • CIFSpin Coater匀胶机
    CIFSpin Coater匀胶机

    Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心,滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大,往往需要滴较多的胶,以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速(通常在500转/分左右)旋转的同时进行滴胶,“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开,减少光刻胶的浪费,采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿(铺展覆盖)整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下,动态滴胶尤其适用,不会产生针孔。

    时间:2022-09-16型号:CIF访问量:1498
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