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CIF-Spin Processor转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。
CIF扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程等离子清洗源，在实现高效、快速清洗的同时，能显著降低对样品的轰击损伤。本设备主要用于清除SEM、FIB等仪器腔体及样品表面的碳氢化合物污染，兼容国内外主流电镜品牌，保障设备性能与成像质量。
CIF生产型等离子清洗机 CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富， 且真空腔体里可分层， 适合大多数生产场景清洗，活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下 稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。
CIF烤胶机是一种控温加热 设备。主要用于半导体硅片， 载玻片，晶片，基片，ITO 导 电玻璃等工艺的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。
Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。
CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，CIF匀胶旋涂仪为实验室提供了理想的解决方案。
紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF推出的紫外臭氧清洗机系列产品采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调，可选加热控温，以便达到Z佳清洗效果。
CIF粉体专用等离子清洗机，专为粉末、颗粒等微细材料设计。它突破了传统真空等离子设备在处理粉体样品时的技术瓶颈，可高效处理微米乃至纳米级别的超细粉体，同时兼容常规材料的高品质清洗与表面处理需求。
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