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  • CPC-Aplasma cleaner等离子清洗机
    CPC-Aplasma cleaner等离子清洗机

    Plasma等离子清洗机通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

    时间:2021-03-31型号:CPC-A访问量:1227
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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-SpinProcessor转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    时间:2020-04-21型号:SC1访问量:213
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  • CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机
    CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机

    CIF扫描电镜等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。

    时间:2020-04-18型号:CIF-SEM访问量:363
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  • CPC-CCIF转瓶等离子清洗机
    CPC-CCIF转瓶等离子清洗机

    CIF转瓶等离子清洗机,专为处理颗粒、粉末样品而设计!在等离于体作用下,一些材料很容易发生断键和聚合,应用可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。

    时间:2020-04-17型号:CPC-C访问量:582
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  • CPC-B-13.56等离子清洗机
    CPC-B-13.56等离子清洗机

    Plasma等离子清洗机通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

    时间:2020-04-17型号:CPC-B-13.56访问量:842
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  • PH18CIF烤胶机
    PH18CIF烤胶机

    CIF烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀性要求高的实验室。

    时间:2020-04-21型号:PH18访问量:203
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  • SC1CIF-Spin Coater
    SC1CIF-Spin Coater

    CIF-SpinCoater匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    时间:2021-03-31型号:SC1访问量:178
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  • SC1CIF-匀胶旋涂仪
    SC1CIF-匀胶旋涂仪

    CIF-匀胶旋涂仪转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    时间:2021-03-31型号:SC1访问量:258
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