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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-Spin Processor转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

    时间:2024-07-03型号:SC1访问量:5301
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  • CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机
    CIF-SEM扫描电镜等离子清洗机

    CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程等离子清洗源 设计,清洗快速、高效、低轰击损伤,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 体内碳氢化合物的清洗。

    时间:2024-07-03型号:CIF-SEM访问量:5610
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  • CPC15/35/80/120/150CIF生产型等离子清洗机
    CPC15/35/80/120/150CIF生产型等离子清洗机

    CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富, 且真空腔体里可分层, 适合大多数生产场景清洗,活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下 稳定运行,产品性能稳定,样品处理重复性、一致性好。

    时间:2024-07-03型号:CPC15/35/80/120/150访问量:2362
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  • PH22CIF烤胶机
    PH22CIF烤胶机

    烤胶机是一种控温加热 设备。主要用于半导体硅片, 载玻片,晶片,基片,ITO 导 电玻璃等工艺的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

    时间:2024-07-03型号:PH22访问量:4718
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  • CIF Spin Coater匀胶机
    CIF Spin Coater匀胶机

    Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心,滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大,往往需要滴较多的胶,以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速(通常在500转/分左右)旋转的同时进行滴胶,“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开,减少光刻胶的浪费,采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿(铺展覆盖)整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下,动态滴胶尤其适用,不会产生针孔。

    时间:2024-07-03型号:CIF Spin Coater访问量:3729
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  • MSC/SC1/2CIF匀胶旋涂仪
    MSC/SC1/2CIF匀胶旋涂仪

    CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。

    时间:2024-07-03型号:MSC/SC1/2访问量:7230
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  • UVO5CIF紫外臭氧清洗机
    UVO5CIF紫外臭氧清洗机

    紫外臭氧清洗机(UVO),是一种简单,经济,快速高效的材料表面清洗设备,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。

    时间:2024-07-03型号:UVO5访问量:6117
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  • CPCP3/plus粉体等离子清洗机
    CPCP3/plus粉体等离子清洗机

    CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

    时间:2024-07-03型号:CPCP3/plus访问量:4256
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