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Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心,滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大,往往需要滴较多的胶,以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速(通常在500转/分左右)旋转的同时进行滴胶,“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开,减少光刻胶的浪费,采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿(铺展覆盖)整个基片表面。尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下,动态滴胶尤其适用,不会产生针孔。
匀胶旋涂仪的真空泵一定要选用无油的,压力标定准确,因为任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况,还会让滴胶液不慎进入真空管道系统造成堵塞。用过国产匀胶机的客户常常会关心怎么清洗的问题,这一点许多匀胶机都做得不错,他们有通过联动机制,如果真空吸附力不够的时候,不会开始旋转。
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