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CIF等离子刻蚀机

简要描述:CIF等离子刻蚀机过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

  • 产品型号:CPC-A
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2020-04-17
  • 访  问  量:2428

详细介绍

品牌CIF产地类别国产
应用领域医疗卫生,食品,化工,电子

CIF等离子刻蚀机

 

    Plasma等离子刻蚀机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。

Plasma等离子清洗机清洗原理:

    Plasma等离子刻蚀机产生的等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。

     Plasma等离子刻蚀机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

 Plasma等离子刻蚀机产品特点:

  • 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠;
  • 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确;
  • 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定;
  • 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈;
  • 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换;
  • 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单;
  • 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程;
  • 无需任何耗材,使用成本低;
  • 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;
  • 整机保修一年。

 Plasma等离子刻蚀机技术参数:

序号

型号

CPC-A

CPC-B

CPC-C

1

舱体尺寸

275X110(直径)mm 

295X150(直径)mm 

295X150(直径)mm 

2

舱体容积

2.6L

5.2L

5.2L

3

射频频率

40KHz

40KHz

13.56MHz

4

射频功率

10-200W无极可调

10-200W无极可调

10-150W无极可调

5

电 源

220V 50/60HZ

220V 50/60HZ

220V 50/60HZ

6

电 流

1.2A

1.2A

1.2A

7

时间设定

1-99分59秒

1-99分59秒

1-99分59秒

8

气体稳定时间

1分钟

1分钟

1分钟

9

真空度

100pa以内

100pa以内

100pa以内

10

等离子激发方式

电容式

电容式

电容式

11

外形尺寸L*W*H 

480*450*265MM

520*500*295MM

520*480*295MM

12

整机重量

15Kg

20Kg

25Kg

Plasma等离子清洗机配置清单:

  • 主机                  1台    
  • 真空泵                1台
  • 真空软管              1根
  • 舱内托盘              1块
  • 电源线                2根
  • 备件保险管            4个
  • 说明书                1本
  • 合格证                1份
  • 保修单                1份

Plasma等离子清洗机应用领域:

    Plasma等离子清洗机等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学  生物学等不同领域,主要用于以下实验:

  • 表面清洁  
  • 表面活化 
  • 键合 
  • 去胶 
  • 金属还原 
  • 简单刻蚀 
  • 器械的消毒
  • 去除表面有机物 
  • 疏水实验
  • 镀膜前处理等
  • 等离子清洗机、等离子清洗机、等离子清洗机

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