紫外臭氧清洗机在工作时是给臭氧发生器供电，臭氧发生器产生臭氧，由臭氧泵通过臭氧管输送到洗菜机的洗涤桶中，在洗涤桶中与水机接触，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很强的杀菌、消毒，降解农药作用。使用过后可将产品表面清洗处理的均匀度一致，可*清除...

在面对微波消解完赶酸过程中经常遇到的赶酸时间长、酸腐蚀严重存在的问题，使用真空赶酸系统可以把原来的赶酸时间从原来的3-4个小时缩短到30-40分钟之间，大大提高赶酸效率，并且通过碱液吸收，可避免酸气的腐蚀，杜绝污染。真空赶酸系统采用集成式优...

洁净的样品前处理容器是获得可靠分析结果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常压消解罐、玻璃器皿（试管、烧杯、容量瓶等）等的痕量清洗，对于实验室人员来说，始终是一个非常繁琐而又非常重要的挑战。使用酸蒸逆流清洗器可以解决这些问题。酸蒸逆流清洗器...

紫外臭氧清洗机在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍，随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。紫外臭氧清洗机提供一种简单,经济，快速获得超洁净的表面，去除大多数无机基材(比如石英,硅片,...

恒温电热板主要用于实验室和化学生产中大规模的加热、消解、煮沸、烘焙、干燥等温度实验，其升温速度快，温度准确，操作面大，表面耐强酸、强碱，是生物、遗传、医药卫生、环保、生化实验室、分析室、教学科研的工具。其材质采用铝合金铸造加工而成，导热性好...

匀胶旋涂仪可用于除半导体外,还有硅片、芯片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺，科研、教学之用高精度涂敷。影响匀胶效果的因素有匀胶速度、匀胶加速度、控制精度等因素。匀胶转速：基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力，而且还关系到紧挨着基片表...

洁净的样品反应管是获得正确分析结果的前提，传统的清洗方法是把实验容器置于酸缸或热酸中浸泡数小时甚至更长时间，这种方法效率低、酸消耗量大，为了避免交叉污染，需要定期更换酸，否则将给实验数据带来巨大的风险。对于实验室人员来说，始终是一个非常繁琐...

匀胶旋涂仪主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。匀胶旋涂仪主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使...