CIF 推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。CIF等离子清洗机F系列性能稳定，操作简单方便，易维护。

CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

CIF 透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计，清洗快速高效， 低轰击损伤， 同时可实现常规等离子清洗。透射电镜样品杆清洗机主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。

紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）表面上的有机污染物。

等离子灰化仪又称等离子有机质去除仪用于煤与生物质样品的低温灰化，SEM&TEM中有机样品刻蚀，塑料品的表面处理以及有机材料的微观灰化。

CIF Flash-Evac系列闪蒸成膜仪基于“快速溶剂挥发诱导成膜”原理研发生产的*薄膜制备设备，通过真空环境加速溶剂蒸发，驱动溶质（如有机小分子、聚合物、金属卤化物等）快速自组装形成均匀纳米薄膜。设备具备智能控制、高效成膜与广泛兼容等优势，广泛应用于钙钛矿太阳能电池、OLED、柔性电子与传感等前沿领域。

CIF离子溅射仪是一款专为贵金属及合金材料镀膜研制的高精度设备，集*控制技术与人性化设计于一体，可实现精准、高效且稳定的溅射镀膜工艺。广泛适用于科研实验与精密制造领域，为用户提供高质量、一致性高的镀膜效果。

CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。RIE反应离子刻蚀机适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。