CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

CIF 透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计，清洗快速高效， 低轰击损伤， 同时可实现常规等离子清洗。 主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。

紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）表面上的有机污染物。

CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。

CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富， 且真空腔体里可分层， 适合大多数生产场景清洗，活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下 稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。

CIF推出全新一代 CPC-10系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。

CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。

CIF 推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。 产品性能稳定，操作简单方便，易维护。