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CIF Flash-Evac系列闪蒸成膜仪基于“快速溶剂挥发诱导成膜”原理研发生产的*薄膜制备设备，通过真空环境加速溶剂蒸发，驱动溶质（如有机小分子、聚合物、金属卤化物等）快速自组装形成均匀纳米薄膜。设备具备智能控制、高效成膜与广泛兼容等优势，广泛应用于钙钛矿太阳能电池、OLED、柔性电子与传感等前沿领域。
CIF离子溅射仪是一款专为贵金属及合金材料镀膜研制的高精度设备，集*控制技术与人性化设计于一体，可实现精准、高效且稳定的溅射镀膜工艺。广泛适用于科研实验与精密制造领域，为用户提供高质量、一致性高的镀膜效果。
CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。RIE反应离子刻蚀机适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。
CIF推出全新一代 CPC-10系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。CIF实验室型等离子清洗机具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
CIF推出的新一代科研型等离子清洗设备，通过协同优化的结构设计与腔体空间，显著拓展了样品处理容量与应用范围。该设备性能可靠，兼顾了操作的简便性与维护的便捷性，满足高标准科研需求。
CIF为科研实验专门推出一种实验室注射泵，高精度微量流体传输注射泵-SP-2型注射泵。它采用高强度航空轴承、优异的控制系统和精密的机械结构，使用寿命更长，精度更高。
CIF臭氧中和器（UVO-N）用于紫外臭氧清洗机臭氧去除配套设备。主要是通过纳米级金属氧化物催化剂分解臭氧，以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去除臭氧的目的。
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